东莞某光电器件心片研发厂，晶圆生产制造环节中行成含硅、氟的异常废渣，设汁治理整体规模1200吨/日。废渣成份错综复杂，带有nm级硅小粒及氢氧化钠，传统化治理措施不好及格。 废渣部分及由来 大部分危害物 ：电解质溶液硅（100-500nm粒度分布）、氟铁离子（200-300mg/L）、异丙醇 特征制作工艺 ：晶圆刻蚀污水（45%）、CMP物理自动化磨光污水（40%）、设备冲干净水（15%） 正确处理工艺设计具体步骤 研发适用"无机化学积累+持种膜剥离 "技能路径： 钙盐积淀 ：加药氯化钙清除氟铝离子（转化CaF2沉定） 斜管沉淀池不起作用 ：分手后复合二沉池剂实现了氢氧化铁硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm钻孔大小膜截流微细粒状 反渗透设备工作会更体系 ：脱盐率>98%，利用率75% 汽化析出 ：浓水段实行氟化物零废气排放 从而功效 氟化物密度：<8mg/L（大于國家特级的标准10mg/L） 硅硫含量：<5mg/L 水材料使用率：70%适用密闭式冷却塔塔补充水分 垃圾回收利用：减压蒸馏碎渣量较传统与现代新工艺减小60%