某半导体行业研发机构因晶圆难以清理制作工艺呈现含氨污废水 ，蓄水量200吨/天。污废水 中除氯离子外还有氟化物和氢化物发生器天价属，正确处理难易度大。本地人尾气排放条件条件标准要求氯离子＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 污水含量及来历 晶圆洗涤废水处理方法（基本收入）：含氟化物200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀制作工序电镀废水：含进样器铜、镍等天价属，pH值上下波动大 CMP研磨抛光废水处理方法：含硅颗粒状及氯离子 处置生产鑫霖环保图 通过"生物学奠定+膜剥离+折点氯化"乐队组合施工工艺： 预操作 ：加药系统CaCl2除氟，抑制pH在7.5-8. 反渗透装置模式 ：除掉0.01μm以内小粒物 反参透浸提 ：将氯离子溶缩至1000mg/L大于 折点氯化 ：透彻调节氯添加量，将化学需氧量流量转化为氢气 亚铁离子置换 ：保驾护航血本属达到标准 结果英文郊果 氧化还原电位可靠＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 天价属占比降至在线检测限 水中水回用率达75% 活性污泥形成量避免40%