某半导体材料处里芯片创造厂在晶圆手工加工的过程 中，食用硅烷去硅外延性生長，汽车尾气洗滌塔诞生高溶液浓度含硅废渣。废渣兼备pH浮动大（2-11）、硅量高的共同点，一般处里具体方法易显现硅垢拥堵方面。 焦化废水组分及的来源 废水处理工艺关键组分为： 融化性硅酸盐 ：SiO₂浓硫酸浓度达1000-1500mg/L 浓盐酸/氢钝化钠 ：洗洁塔腐蚀性洗洁液杂质 颗粒物硅 ：nm级SiO₂胶体溶液 痕量砷 ：原辅料钙镁离子带到 除理艺具体步骤 去创新通过"二级与+膜滤出+挥发晶体"工艺设计： 特级与 ：用CaO调结pH至4-5，提取硅酸钙发展，硅祛除率60%。 三级中合 ：加Na₂CO₃将pH提高自己至9，进步积淀剩的硅，串连用镁剂除砷。 反渗透膜整体 ：0.02μm陶瓷厂家膜油烟净化器纳米技术级硅粒子，通量不稳在80LMH。 MVR减压蒸馏器 ：果汁高盐废水处理，晶体出Na₂SO₄副企业产品，水工业废水处理率超90%。 终极实际效果 总硅从1500mg/L降落到5mg/L一下 砷浓度从0.8mg/L降为0.01mg/L 系統无水垢运营高出2年 去年收集磷酸钠硫化锌约800吨