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半导体生产废水处理案例|半导体生产废水处理方法

好项目蓝本 该半导体材料营造开发区地属豫东中北部,总投入不底于200万亿元,主要生产加工12寸大晶圆和为先进装封产品设备。开发区日排卸焦化污水流量约5000吨,带有多工艺技术焦化污水,除理困难程度大。工程特殊要求焦化污水除理后完成《电子器材工业园水空气污染排卸规定》(GB 39731-2020)特殊排卸标准值,位置工业废水处理率不底于60%。 污水基本成分及收入 含氟废污水:主要是发源晶圆蚀刻、清洁生产工序,氟铁离子渗透压可以达到200-500mg/L,pH值动荡大 有机肥料物废液:光刻、显影液、去胶等多种工序诞生,COD含量300-800mg/L,包含异丙醇、二甲苯等有机肥料物石油醚 含铜生产废水:物理镀、物理自动化机械打蜡 (CMP)工艺流程所产生,铜亚铁离子溶度50-150mg/L 腐蚀性废水处理方法:机械清洁、有机废气物干洗等缓解制造,pH值在2-12左右起伏 抛光生产废水:CMP工作引发,所含奈米级二钝化硅颗料 整理工艺设计步骤 主要包括"分类别回收+分质工作+深度.油烟净化器"的搭配组合工艺设备: 含氟废水加工处理加工处理线 : 二级化学反应发展:先加药氯化钙缓解pH至6-7,多加入PAC和PAM水解酸化池发展 催化活性硫化铝吸收:保障氟铁离子含量减至5mg/L左右 厌氧颗粒污泥经板框压滤后都交给行业正确处理 有机的焦化废水外理线 : 微钛电极预外理:铁碳微钛电极溶解大原子有机酸物 UASB水解酸化池反應器:HRT=24h,COD避开率>60% MBR膜微生物反馈器:选取PVDF双层钎维膜,通量15LMH 含铜废液清理线 : 化学物质沉积:加药系统NaOH调整pH至9-10,成型Cu(OH)2沉积 阳阴阳离子交互:有级硅胶粘合剂交互加强组织领导铜阳阴阳离子<0.3mg/L 电解法法二手回收公司:有些化工废水经电解法法二手回收公司塑料铜 结合加工处理系统性 : 设定池:义均土质的水量,设爆气搅伴 混凝土水解:加药塑料斜板沉淀池剂除去氢氧化铁材料 老化催化脱色脱色:可分解难可分解生物碳物 反渗系统性:脱盐率>98%,产水工业废水处理于研发线 污泥干化工作模式 : 厌氧颗粒污泥提液池:固状溶液浓度从1%增强至3% 离心力缺水:注入PAM修护,泥饼水分含量率<75% 底温干化:部份污泥干化干化至含水量率30%低于 后面作用 好项目建于正常运作后,基本指标图保持稳定高达:氟化物<5mg/L、COD<30mg/L、铜铝离子<0.3mg/L、pH 6-9。企业废水处理水水体质量高达GB/T 19923-2005企业纯净水原则,企业废水处理率65%,今年省鲜活水用水量约140万吨。废水生产量可以减少40%,安全隐患固体废物加工投资成本有效降低35%。系统的手动化限度高,在线平台监测方案数据库与环保性部门乃至每一位员工即时登陆。

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