項目题材 该半导体材料的生产客户隶属于华南沿海地区，关键的生产集成化电路板IC芯片，日污染物出含氟污水约800吨。会因为是时间优质标准规定的提升，同一加工公共设施难以达到氟化物污染物出酸度不高于5mg/L的新让，客户投资项目1700万元再建专业含氟污水加工体统。 废水处理成分表及收入 废水处理工艺关键种类于IC芯片研发步骤中的刻蚀工步和进行维护清洁工步，关键被污染的物也包括： 氟化合物氧浓度：300-800mg/L pH值：2- 包含的几瓶硅酸盐、磷酸 微量分析天价属如铜、镍等 处理方法环节 主要采用"预操作+无机化学悠长岁月中+深度的操作"三人组合工艺技术： 改善池：均等化土质用水量，设制pH迅雷在线评估 第一表现池：污泥脱水氢腐蚀钙，把控pH至7-8，养成氟化钙乳浊液 第一放置物池：放置物拆分氟化钙污水 三级反应迟钝池：加药氯化钙和汇聚氯化铝，进一次洗去残存氟阳离子 二级滤渣池：二级滤渣破乳 砂滤控制系统：除掉飘浮物 活力性炭吸：快速清理有机化学物和轻微高价属 工业废水操作系统：板框压滤脱干，工业废水含水量率下降60%下面 之后效用 设备执行安全稳定后，出水量水质监测： 氟阳离子质量浓度：2.1-3.8mg/L pH值：6.5-7. SS<5mg/L 巨资属纯度均不超查出限 完完全全具备《电子设备产业水环境工业废气污染物规范标准规范标准》(GB39731-2020)规定，年变少氟化物污染物规范标准约180吨。